Structure, superconducting device, and structure manufacturing method

WO2024063162 Art A1 28. März 2024

Anmelder: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE, NEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024063162
Aktenzeichen: EP23868283
Anmeldetag: 22. September 2023
Veröffentlichung: 28. März 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H10N60/80H01L21/60H01L25/065H01L25/07H01L25/18H10N60/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NATIONAL INSTITUTE OF ADVANCED INDUSTRIAL SCIENCE
NEC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

3.785 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

27.370 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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