Scanning electron microscopy (sem) back-scattering electron (bse) focused target and method

WO2024068426 Art A1 4. April 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024068426
Aktenzeichen: EP23776338
Anmeldetag: 21. September 2023
Veröffentlichung: 4. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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