Susceptor for epitaxial growth and method for manufacturing epitaxial wafer

WO2024070151 Art A1 4. April 2024

Anmelder: SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024070151
Aktenzeichen
EP23871395
Anmeldetag
20. Juli 2023
Veröffentlichung
4. April 2024
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/205C23C16/46H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.180 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von

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