Method for producing semiconductor substrate, composition and polymer

WO2024070728 Art A1 4. April 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024070728
Aktenzeichen: EP23871961
Anmeldetag: 14. September 2023
Veröffentlichung: 4. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11C08G8/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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