Substrate with conductive film, reflective mask blank, reflective mask, and semiconductor device production method

WO2024071026 Art A1 4. April 2024

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024071026
Aktenzeichen: EP23872249
Anmeldetag: 25. September 2023
Veröffentlichung: 4. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24C23C14/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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