Dry Etching Residue Removing Solution

WO2024071417 Art A1 4. April 2024

Anmelder: TOKUYAMA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024071417
Aktenzeichen: EP23872636
Anmeldetag: 29. September 2023
Veröffentlichung: 4. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304C11D7/54H01L21/306

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKUYAMA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokuyama

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Shunan, gegründet 1918. Produziert unter anderem Spezialchemikalien, Zement und Halbleitermaterialien.

1.073 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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