Mask for a substrate, substrate support, substrate processing apparatus, method for layer deposition on a substrate and method of manufacturing one or more devices
WO2024074202
Art A1
11. April 2024
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024074202
- Aktenzeichen
- EP22800636
- Anmeldetag
- 5. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 11. April 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/56C23C14/50C23C14/04H01L21/283H01L21/3205H01L21/443H01J37/32H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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