Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus, and method of processing a mirror

WO2024074306 Art A1 11. April 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024074306
Aktenzeichen: EP23785726
Anmeldetag: 20. September 2023
Veröffentlichung: 11. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B5/08G02B7/185G02B26/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

2.391 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von