Verfahren und Vorrichtung zum Bilden einer Fluorid- oder Oxyfluoridschicht für ein Optisches Element für den Vuv-Wellenlängenbereich, Optisches Element Umfasssend die Fluorid- oder Oxyfluoridschicht

WO2024074443 Art A1 11. April 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024074443
Aktenzeichen: EP23785997
Anmeldetag: 2. Oktober 2023
Veröffentlichung: 11. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02B1/12C23C14/00C23C16/30G02B1/18G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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