Method for adjusting thermal uniformity in wafer mounting base and method for producing wafer mounting base
WO2024075208
Art A1
11. April 2024
Anmelder: NGK INSULATORS, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024075208
- Aktenzeichen
- EP22961396
- Anmeldetag
- 5. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 11. April 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/683
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NGK INSULATORS, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NGK Insulators
Japanisches Industrieunternehmen mit Sitz in Nagoya. NGK Insulators fertigt Keramikprodukte, darunter Isolatoren, Abgaskatalysatorträger, Sensoren und Energiespeichersysteme für Energieversorgung, Automobil und Industrie.
4.049 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.