Ni alloy film and sputtering target material for formation of ni alloy film

WO2024075547 Art A1 11. April 2024

Anmelder: PROTERIAL, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024075547
Aktenzeichen: EP23874676
Anmeldetag: 22. September 2023
Veröffentlichung: 11. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C22C19/03C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: PROTERIAL, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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