Automated thin film deposition system utilizing machine learning and thin film deposition method

WO2024075909 Art A1 11. April 2024

Anmelder: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024075909
Aktenzeichen: EP23874982
Anmeldetag: 23. Februar 2023
Veröffentlichung: 11. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/52C23C16/448C23C16/46C23C16/56C23C14/54C23C14/58C30B25/16

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SEOUL NATIONAL UNIVERSITY R&DB FOUNDATION
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Seoul National University R&DB Foundation

Technologietransfer- und Forschungsförderungsstiftung der Seoul National University in Südkorea. Sie verwaltet und vermarktet die an der Universität entstandenen Forschungsergebnisse und Patente.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von