An Aberration Correction Optical System

WO2024078813 Art A1 18. April 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024078813
Aktenzeichen: EP23769252
Anmeldetag: 14. September 2023
Veröffentlichung: 18. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02B27/00G03F7/00G02B5/18G02B26/08G02B27/10G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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