Silicon carbide crystal substrate, epitaxial substrate, and method for manufacturing semiconductor device

WO2024080071 Art A1 18. April 2024

Anmelder: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024080071
Aktenzeichen: EP23877077
Anmeldetag: 14. September 2023
Veröffentlichung: 18. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C30B23/02C30B29/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Electric Industries

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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