Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern-forming method, and electronic device production method

WO2024080128 Art A1 18. April 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024080128
Aktenzeichen: EP23877134
Anmeldetag: 26. September 2023
Veröffentlichung: 18. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D307/00C07D317/72C07D333/76C07D409/06G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

21.752 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

Vertreten von