Silicon-containing film precursor, composition for forming silicon-containing film, method for manufacturing sulfur-containing siloxane, and method for manufacturing silicon-containing film

WO2024080237 Art A1 18. April 2024

Anmelder: SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024080237
Aktenzeichen: EP23877241
Anmeldetag: 6. Oktober 2023
Veröffentlichung: 18. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/42C07F7/21H01L21/316H01L21/318

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd.

Japanisches Chemieunternehmen der Sumitomo-Gruppe mit Sitz in Hyogo, Hersteller von Spezialchemikalien und Polymeren, unter anderem superabsorbierenden Polymeren. Patente betreffen vor allem Polymer- und Materialtechnik.

791 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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