Low temperature si-containing films deposited from chlorosilane and aminosilane reactions

WO2024081357 Art A1 18. April 2024

Anmelder: VERSUM MATERIALS US, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024081357
Aktenzeichen
EP23877994
Anmeldetag
12. Oktober 2023
Veröffentlichung
18. April 2024
Rechtsraum
WO
IPC
C23C16/34C23C16/455C23C16/44
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
VERSUM MATERIALS US, LLC
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Versum Materials US

Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.

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