Low temperature si-containing films deposited from chlorosilane and aminosilane reactions
WO2024081357
Art A1
18. April 2024
Anmelder: VERSUM MATERIALS US, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024081357
- Aktenzeichen
- EP23877994
- Anmeldetag
- 12. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 18. April 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C16/34C23C16/455C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- VERSUM MATERIALS US, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Versum Materials US
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
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