Defect map based d2d alignment of images for machine learning training data preparation

WO2024083437 Art A1 25. April 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024083437
Aktenzeichen: EP23776905
Anmeldetag: 21. September 2023
Veröffentlichung: 25. April 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/00G01N21/95G06T7/00G06N3/08H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von