Concurrent auto focus and local alignment methodology
WO2024083451
Art A1
25. April 2024
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024083451
- Aktenzeichen
- EP23782164
- Anmeldetag
- 25. September 2023
- Veröffentlichung
- 25. April 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06T7/00G06T7/33
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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