Method for manufacturing semiconductor device and semiconductor device
WO2024084637
Art A1
25. April 2024
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024084637
- Aktenzeichen
- EP22962745
- Anmeldetag
- 19. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 25. April 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L23/12H01L23/14H05K1/02H05K3/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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Vertreten von
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