Radioactive-ray-sensitive resin composition and pattern formation method

WO2024090041 Art A1 2. Mai 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024090041
Aktenzeichen: EP23882254
Anmeldetag: 5. September 2023
Veröffentlichung: 2. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C65/105C07C65/24C07C65/28C07C233/87C07C381/12C09K3/00G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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