Gas flow configurations for semiconductor inspections
WO2024091397
Art A1
2. Mai 2024
Anmelder: KLA CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024091397
- Aktenzeichen
- EP23883321
- Anmeldetag
- 17. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 2. Mai 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01N21/95G01N21/956G01N21/88G01N21/05H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
1.908 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.