Fluorine Reduction Is Silicon-Containing Films

WO2024091844 Art A1 2. Mai 2024

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024091844
Aktenzeichen: EP23883578
Anmeldetag: 20. Oktober 2023
Veröffentlichung: 2. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/455C23C16/40C23C16/34C23C16/52C23C16/04H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von