Wet etching method for thin film lithium niobate, and thin film lithium niobate device

WO2024092422 Art A1 10. Mai 2024

Anmelder: TSINGHUA UNIVERSITY 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024092422
Aktenzeichen: EP22963742
Anmeldetag: 31. Oktober 2022
Veröffentlichung: 10. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02B6/122G02B6/12G02B6/132

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TSINGHUA UNIVERSITY
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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