Silicon carbide substrate, epitaxial substrate, method for producing semiconductor device, and method for producing silicon carbide substrate

WO2024095640 Art A1 10. Mai 2024

Anmelder: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024095640
Aktenzeichen: EP23885404
Anmeldetag: 26. September 2023
Veröffentlichung: 10. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C30B29/36C30B23/06H01L21/20H01L21/338H01L29/778H01L29/812

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sumitomo Electric Industries

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Osaka, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Kabel- und Glasfasertechnologie, Halbleitern, Automobilkomponenten sowie Elektronik- und Werkstofftechnik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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