Photosensitive resin composition, method for producing cured relief pattern using same, and method for producing polyimide film using same

WO2024095927 Art A1 10. Mai 2024

Anmelder: ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024095927
Aktenzeichen
EP23885683
Anmeldetag
27. Oktober 2023
Veröffentlichung
10. Mai 2024
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004C08F290/14C08G73/06G03F7/027G03F7/037G03F7/038H01L21/768H01L23/532
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Asahi Kasei

Asahi Kasei ist ein japanischer Mischkonzern mit Sitz in Tokio, der in den Bereichen Chemie und Kunststoffe, Wohnungsbau sowie Medizintechnik tätig ist. Das 1922 gegründete Unternehmen zählt zu den größten Chemiekonzernen Japans.

2.559 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen