Photolithographic patterning method

WO2024096229 Art A1 10. Mai 2024

Anmelder: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024096229
Aktenzeichen: EP23885927
Anmeldetag: 13. Juni 2023
Veröffentlichung: 10. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20H01L21/033H01L21/308

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA ADVANCED INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 KAIST

Südkoreanische technische Universität und Forschungsinstitution mit Fokus auf Ingenieurwissenschaften, Naturwissenschaften und Technologieentwicklung, unter anderem in Robotik und Elektronik.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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