Production control method for a projection exposure apparatus, projection exposure apparatus, and projection exposure method
WO2024099795
Art A1
16. Mai 2024
Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024099795
- Aktenzeichen
- EP23798913
- Anmeldetag
- 27. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/00G01B9/02056
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- CARL ZEISS SMT GMBH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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