Photosensitive resin composition, cured product, and semiconductor element
WO2024100764
Art A1
16. Mai 2024
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024100764
- Aktenzeichen
- EP22965090
- Anmeldetag
- 8. November 2022
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/037
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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