Charged particle beam apparatus and control method for charged particle beam apparatus

WO2024100828 Art A1 16. Mai 2024

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024100828
Aktenzeichen: EP22965153
Anmeldetag: 10. November 2022
Veröffentlichung: 16. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/141H01J37/21H01J37/244

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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