Pattern length measurement/defect inspection method, image data processing system, and computer-readable recording medium

WO2024100896 Art A1 16. Mai 2024

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024100896
Aktenzeichen: EP22965220
Anmeldetag: 11. November 2022
Veröffentlichung: 16. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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