Film state measurement method, film state measurement device, and program
WO2024101321
Art A1
16. Mai 2024
Anmelder: NSK LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024101321
- Aktenzeichen
- EP23888668
- Anmeldetag
- 6. November 2023
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01M13/04G01N27/02G01N27/04G01N27/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- NSK LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
NSK
Japanischer Hersteller von Wälzlagern und Präzisionsmaschinenkomponenten mit Sitz in Tokio, unter anderem für Automobil- und Industrieanwendungen.
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