Conduit system, radiation source, lithographic apparatus, and methods thereof

WO2024102640 Art A1 16. Mai 2024

Anmelder: CYMER, LLC 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024102640
Aktenzeichen: EP23821793
Anmeldetag: 6. November 2023
Veröffentlichung: 16. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/036H01S3/034H01S3/225G03F7/00F16K31/08H01S3/03H01S3/0971H01S3/104

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CYMER, LLC
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Maschinenelemente & Fluidtechnik Optik & Fototechnik

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