Photoresist composition for euv, method for manufacturing same, and method for forming photoresist pattern using same

WO2024106832 Art A1 23. Mai 2024

Anmelder: Gwangju Institute of Science and Technology 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024106832
Aktenzeichen: EP23891899
Anmeldetag: 6. November 2023
Veröffentlichung: 23. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Gwangju Institute of Science and Technology
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Gwangju Institute of Science and Technology

Das Gwangju Institute of Science and Technology ist eine staatliche technische Hochschule in Südkorea mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt durch Mess- und Prüftechnik sowie organische Chemie. Anmeldungen reichen von 2004 bis in die Gegenwart.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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