Apparatus and method for manufacturing pattern structure with three-dimensional pattern geometry by using photoreactive polymer composition, and pattern structure manufactured thereby

WO2024107033 Art A1 23. Mai 2024

Anmelder: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024107033
Aktenzeichen: EP23892095
Anmeldetag: 20. November 2023
Veröffentlichung: 23. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03H1/04G03H1/02G03F7/00C08F299/02C08F220/30C08F2/50G03F7/004G03F7/033G01N21/41

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea University Research and Business Foundation

Südkoreanische Einrichtung, die Forschungsprojekte und Technologietransfer der Korea University verwaltet, patentiert Ergebnisse aus universitärer Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin und überführt sie in Anwendungen.

1.776 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von