Patch-based denoising diffusion probabilistic model for sparse tomographic imaging

WO2024108203 Art A1 23. Mai 2024

Anmelder: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024108203
Aktenzeichen: EP23892715
Anmeldetag: 20. November 2023
Veröffentlichung: 23. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G01N23/04G03B42/00A61B6/03G06N20/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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