High-speed measurement method and device for three-dimensional surface topography of wafer
WO2024108721
Art A1
30. Mai 2024
Anmelder: TIANJIN UNIVERSITY, STANDARD OPTICS TECHNOLOGY TIANJIN CO., LTD. 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024108721
- Aktenzeichen
- EP22966400
- Anmeldetag
- 26. Dezember 2022
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B11/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TIANJIN UNIVERSITY
STANDARD OPTICS TECHNOLOGY TIANJIN CO., LTD. - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Tianjin University
Die Tianjin University ist eine der ältesten technischen Hochschulen Chinas mit Sitz in Tianjin. Ihr Patentportfolio deckt breit die Elektronik- und Schaltungstechnik ab, ergänzt durch organische Chemie sowie Mess-, Prüf- und Zeitmesstechnik. Anmeldungen sind seit 2002 belegt.
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