Vertical surrounding gate thin film transistor and manufacturing method therefor
WO2024108729
Art A1
30. Mai 2024
Anmelder: BEIJING SUPERSTRING ACADEMY OF MEMORY TECHNOLOGY, INSTITUTE OF MICROELECTRONICS, CHINESE ACADEMY OF 🇨🇳
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024108729
- Aktenzeichen
- EP22966408
- Anmeldetag
- 29. Dezember 2022
- Veröffentlichung
- 30. Mai 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L27/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- BEIJING SUPERSTRING ACADEMY OF MEMORY TECHNOLOGY
INSTITUTE OF MICROELECTRONICS, CHINESE ACADEMY OF - Land
- 🇨🇳 China
🇨🇳
Beijing Superstring Academy of Memory Technology
Die Beijing Superstring Academy of Memory Technology ist eine 2020 gegründete chinesische Forschungseinrichtung mit Sitz in Peking, die neue Speicherzellarchitekturen für zukünftige DRAM-Technologien entwickelt. Das Patentportfolio konzentriert sich nahezu vollständig auf Halbleiter- und elektrische Bauelemente sowie Datenspeichertechnik. Die noch junge Patenttätigkeit stammt aus den Jahren 2021 bis 2025.
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