Reflection-type phase difference structure and production method for same

WO2024111286 Art A1 30. Mai 2024

Anmelder: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024111286
Aktenzeichen: EP23894298
Anmeldetag: 17. Oktober 2023
Veröffentlichung: 30. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G02B5/30B32B9/00B32B15/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Ushio Inc.

Japanischer Hersteller von Lichtquellen wie Speziallampen, Lasern und LED-Modulen für Industrie, Halbleiterfertigung und Optik mit Sitz in Tokio.

829 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen