Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, and electronic device production method

WO2024111511 Art A1 30. Mai 2024

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024111511
Aktenzeichen: EP23894520
Anmeldetag: 17. November 2023
Veröffentlichung: 30. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07D211/96C07D217/22C07D291/06C07D295/088C07D309/12C07D327/04C07D327/06G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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