Method and device for thin film process including activated proton assist plasma etching

WO2024112078 Art A1 30. Mai 2024

Anmelder: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024112078
Aktenzeichen: EP23895005
Anmeldetag: 21. November 2023
Veröffentlichung: 30. Mai 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3213H01L21/67H10K71/00H01J37/32H10K71/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea University Research and Business Foundation

Südkoreanische Einrichtung, die Forschungsprojekte und Technologietransfer der Korea University verwaltet, patentiert Ergebnisse aus universitärer Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin und überführt sie in Anwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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