Radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and radiation-sensitive acid generator

WO2024116575 Art A1 6. Juni 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024116575
Aktenzeichen: EP23897234
Anmeldetag: 25. September 2023
Veröffentlichung: 6. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C09K3/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik

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