Copolymer and photosensitive resin composition
WO2024116596
Art A1
6. Juni 2024
Anmelder: RESONAC CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024116596
- Aktenzeichen
- EP23897255
- Anmeldetag
- 4. Oktober 2023
- Veröffentlichung
- 6. Juni 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F220/10C08F220/26C08F220/36C08F220/40G02B5/20G03F7/004G03F7/038G09F9/30H10K59/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RESONAC CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Resonac
Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.
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