Film formation method, film formation device, and semiconductor device

WO2024116946 Art A1 6. Juni 2024

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, UNIVERSITY OF TSUKUBA 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024116946
Aktenzeichen: EP23897594
Anmeldetag: 21. November 2023
Veröffentlichung: 6. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/316C23C16/40C23C16/56H01L21/31H01L21/425

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
UNIVERSITY OF TSUKUBA
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.253 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 University of Tsukuba

Die University of Tsukuba ist eine staatliche japanische Universität mit breiter Forschung in Medizin und Biowissenschaften. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Pharma- und Biotechnologie, ergänzt durch Mess- und Nahrungsmitteltechnik. Anmeldungen reichen von 2002 bis in die Gegenwart.

466 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von