Gas recycling systems, substrate processing systems, and related apparatus and methods for semiconductor manufacturing
WO2024118117
Art A1
6. Juni 2024
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024118117
- Aktenzeichen
- EP23898479
- Anmeldetag
- 13. Juli 2023
- Veröffentlichung
- 6. Juni 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C30B25/14C30B25/16C23C16/44C23C16/455
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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