Vacuum chambers for cold field emission electron sources
WO2024120878
Art A1
13. Juni 2024
Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2024120878
- Aktenzeichen
- EP23814376
- Anmeldetag
- 27. November 2023
- Veröffentlichung
- 13. Juni 2024
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J9/39H01J7/18H01J37/16H01J3/02H01J37/073
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML NETHERLANDS B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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