Vacuum chambers for cold field emission electron sources

WO2024120878 Art A1 13. Juni 2024

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2024120878
Aktenzeichen
EP23814376
Anmeldetag
27. November 2023
Veröffentlichung
13. Juni 2024
Rechtsraum
WO
IPC
H01J9/39H01J7/18H01J37/16H01J3/02H01J37/073
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML NETHERLANDS B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Kein Vertreter erfasst.

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen