Mirror arrangement for absorbing radiation, and lithography system

WO2024121018 Art A1 13. Juni 2024

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024121018
Aktenzeichen: EP23818332
Anmeldetag: 4. Dezember 2023
Veröffentlichung: 13. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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