Resist composition, resist pattern forming method, compound, and acid generator

WO2024122423 Art A1 13. Juni 2024

Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024122423
Aktenzeichen: EP23900538
Anmeldetag: 29. November 2023
Veröffentlichung: 13. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C381/12C07D307/00C07D307/33C07D493/18G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Ohka Kogyo

Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.

927 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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