Photosensitive resin composition, resin film having pattern, production method for same, and semiconductor circuit board

WO2024122542 Art A1 13. Juni 2024

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024122542
Aktenzeichen: EP23900657
Anmeldetag: 5. Dezember 2023
Veröffentlichung: 13. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F12/22C08G73/10C08G73/22G03F7/023

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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