Sputtering target and production method therefor

WO2024128075 Art A1 20. Juni 2024

Anmelder: PROTERIAL, LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2024128075
Aktenzeichen: EP23903364
Anmeldetag: 5. Dezember 2023
Veröffentlichung: 20. Juni 2024
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C1/04C22C19/07C23C14/35

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: PROTERIAL, LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Proterial

Japanisches Unternehmen (frühere Firmierung Hitachi Metals), das Spezialstähle, Magnetwerkstoffe und Metallkomponenten für Industrie und Automobilbau herstellt.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von